粉末冶金件金相制样案例(抛光篇)

图1 粉末冶金组织示例。

粉末冶金件抛光阶段需要稳定压力和稳定供液。MASTERLAM 3.0负责压力连贯性，DISTRILAM负责按设定节奏供给抛光液，让细纹、边缘和最终表面逐步收敛。

案例设定	内容
适用样品	烧结钢、渗铜钢、含孔隙粉末冶金件。
前道状态	CAMEO DISK Silver + NEODIA F 6 μm预磨完成。
抛光配置	MASTERLAM 3.0 中央压力/单点加压自动磨抛机 + TOUCHLAM 2TS4（NEODIA F 3 μm）；TOUCHLAM 4FV3（NEODIA F 1 μm）；TOUCHLAM 4MP2（ALPLAN 0.05 μm）。

粉末冶金件抛光控制重点

图2 粉末冶金件抛光阶段推荐耗材组合。

耗材配置与样品控制

控制重点	推荐型号	耗材特点	制样表现
主抛承接	TOUCHLAM 2TS4 + NEODIA F 3 μm	高耐用缎纹天然纤维，适合硬度差异明显、涂层和多相材料精抛。	前道划痕继续收敛，表面状态进入下一道。
精抛整理	TOUCHLAM 4FV3 + NEODIA F 1 μm	柔软长纤维绒面，适合软到中硬材料的后段细抛和最终整理。	前道划痕继续收敛，表面状态进入下一道。
细抛整理	TOUCHLAM 4MP2 + ALPLAN 0.05 μm	厚型微孔聚氨酯泡沫，适合固定流程和重复样品的最终抛光。	粉末冶金件用2TS4保持孔隙边界，4FV3细化，4MP2只承担固定节奏的最终整理。

图3 粉末冶金件抛光阶段推荐设备与起始参数。

设备配置与工艺控制

控制重点	MASTERLAM 3.0 + DISTRILAM特点	起始设置	制样表现
压力补偿	样品被抛去后，设备把实际压力补回到设定压力。	推荐300 mm盘面；10-20 N/样。	压力变化幅度更小，表面状态更稳定。
自动供液	DISTRILAM按设定剂量和间隔供给NEODIA F和终抛液。	少量连续供液，分道设置。	布面状态更稳定，抛光液用量更可控。
程序重复	转速、压力、时间和供液节奏可保存。	按9 μm、3 μm、1 μm和终抛分段。	长时间抛光和批量样品更容易重复。

MASTERLAM 3.0重点说明

MASTERLAM 3.0 + DISTRILAM：压力补偿与自动供液

粉末冶金件抛光对压力连贯性和供液节奏要求高。MASTERLAM 3.0推荐使用300 mm盘面，用压力自动补偿维持设定压力，1 N步幅让压力调整更细；DISTRILAM按设定节奏供给NEODIA F和终抛液，布面状态更稳定。

LAM PLAN抛光路线

图4 粉末冶金件抛光阶段流程。

前道研磨承接

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