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增材制造金属件与粉末金相制样案例(抛光篇)

图1 增材制造金属组织示例。
增材制造金属件与粉末抛光阶段需要稳定压力和稳定供液。MASTERLAM 3.0负责压力连贯性,DISTRILAM负责按设定节奏供给抛光液,让细纹、边缘和最终表面逐步收敛。
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案例设定 |
内容 |
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适用样品 |
增材制造金属件、金属粉末压制件和带方向性的构建样品。 |
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前道状态 |
CAMEO DISK Silver + NEODIA F 6 μm预磨完成。 |
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抛光配置 |
MASTERLAM 3.0 中央压力/单点加压自动磨抛机 + TOUCHLAM 2TS4(NEODIA F 3 μm);TOUCHLAM 4FV3(NEODIA F 1 μm);TOUCHLAM 4MP2(ALPLAN 0.05 μm)。 |
增材制造金属件与粉末抛光控制重点
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控制重点 |
样品状态 |
抛光目标 |
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压力连贯 |
抛光过程中样品高度和接触状态会变化。 |
压力自动补偿把实际压力补回设定值。 |
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供液稳定 |
细抛和终抛对布面湿润状态敏感。 |
DISTRILAM让供液节奏和用量更稳定。 |
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最终表面 |
细划痕、发雾和边缘状态需要逐步整理。 |
终抛后表面洁净,适合观察。 |

图2 增材制造金属件与粉末抛光阶段推荐耗材组合。
耗材配置与样品控制
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控制重点 |
推荐型号 |
耗材特点 |
制样表现 |
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主抛承接 |
TOUCHLAM 2TS4 + NEODIA F 3 μm |
高耐用缎纹天然纤维,适合硬度差异明显、涂层和多相材料精抛。 |
前道划痕继续收敛,表面状态进入下一道。 |
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精抛整理 |
TOUCHLAM 4FV3 + NEODIA F 1 μm |
柔软长纤维绒面,适合软到中硬材料的后段细抛和最终整理。 |
前道划痕继续收敛,表面状态进入下一道。 |
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细抛整理 |
TOUCHLAM 4MP2 + ALPLAN 0.05 μm |
厚型微孔聚氨酯泡沫,适合固定流程和重复样品的最终抛光。 |
增材制造样品有孔隙和层间过渡,2TS4负责多相边界,4FV3细化,4MP2固定最终整理节奏。 |

图3 增材制造金属件与粉末抛光阶段推荐设备与起始参数。
设备配置与工艺控制
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控制重点 |
MASTERLAM 3.0 + DISTRILAM特点 |
起始设置 |
制样表现 |
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压力补偿 |
样品被抛去后,设备把实际压力补回到设定压力。 |
推荐300 mm盘面;10-20 N/样。 |
压力变化幅度更小,表面状态更稳定。 |
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自动供液 |
DISTRILAM按设定剂量和间隔供给NEODIA F和终抛液。 |
少量连续供液,分道设置。 |
布面状态更稳定,抛光液用量更可控。 |
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程序重复 |
转速、压力、时间和供液节奏可保存。 |
按9 μm、3 μm、1 μm和终抛分段。 |
长时间抛光和批量样品更容易重复。 |
MASTERLAM 3.0重点说明
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MASTERLAM 3.0 + DISTRILAM:压力补偿与自动供液 增材制造金属件与粉末抛光对压力连贯性和供液节奏要求高。MASTERLAM 3.0推荐使用300 mm盘面,用压力自动补偿维持设定压力,1 N步幅让压力调整更细;DISTRILAM按设定节奏供给NEODIA F和终抛液,布面状态更稳定。 |
LAM PLAN抛光路线

图4 增材制造金属件与粉末抛光阶段流程。
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步骤 |
确定耗材 |
起始参数 |
过程观察 |
控制动作 |
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精抛 |
TOUCHLAM 2TS4 + NEODIA F 3 μm |
130 rpm / 12-15 N/样 / DISTRILAM少量供液 / 90 s |
熔池边界和孔隙周边细纹降低。 |
保持构建方向特征。 |
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细抛 |
TOUCHLAM 4FV3 + NEODIA F 1 μm |
110 rpm / 10 N/样 / DISTRILAM少量供液 / 60 s |
层间过渡更清楚。 |
清洗后终抛。 |
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终抛 |
TOUCHLAM 4MP2 + ALPLAN 0.05 μm |
100 rpm / 8 N/样 / DISTRILAM少量供液 / 60 s |
最终表面稳定。 |
充分冲洗后观察。 |
前道研磨承接
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研磨步骤 |
确定耗材 |
起始参数 |
进入抛光时的状态 |
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平面磨 |
CAMEO DISK Platinium 3 |
180 rpm / 15-20 N/样 / 60 s |
表面连续,孔口和边界清楚。 |
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细磨 |
CAMEO DISK Platinium 4 |
160 rpm / 15 N/样 / 60 s |
前道划痕收细。 |
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预磨 |
CAMEO DISK Silver + NEODIA F 6 μm |
150 rpm / 12-15 N/样 / 90 s |
孔隙和边界保持稳定。 |