增材制造金属件与粉末金相制样案例(抛光篇)

 

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图1 增材制造金属组织示例。

增材制造金属件与粉末抛光阶段需要稳定压力和稳定供液。MASTERLAM 3.0负责压力连贯性,DISTRILAM负责按设定节奏供给抛光液,让细纹、边缘和最终表面逐步收敛。

案例设定

内容

适用样品

增材制造金属件、金属粉末压制件和带方向性的构建样品。

前道状态

CAMEO DISK Silver + NEODIA F 6 μm预磨完成。

抛光配置

MASTERLAM 3.0 中央压力/单点加压自动磨抛机 + TOUCHLAM 2TS4(NEODIA F 3 μm);TOUCHLAM 4FV3(NEODIA F 1 μm);TOUCHLAM 4MP2(ALPLAN 0.05 μm)。

 

增材制造金属件与粉末抛光控制重点

控制重点

样品状态

抛光目标

压力连贯

抛光过程中样品高度和接触状态会变化。

压力自动补偿把实际压力补回设定值。

供液稳定

细抛和终抛对布面湿润状态敏感。

DISTRILAM让供液节奏和用量更稳定。

最终表面

细划痕、发雾和边缘状态需要逐步整理。

终抛后表面洁净,适合观察。

 

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图2 增材制造金属件与粉末抛光阶段推荐耗材组合。

耗材配置与样品控制

控制重点

推荐型号

耗材特点

制样表现

主抛承接

TOUCHLAM 2TS4 + NEODIA F 3 μm

高耐用缎纹天然纤维,适合硬度差异明显、涂层和多相材料精抛。

前道划痕继续收敛,表面状态进入下一道。

精抛整理

TOUCHLAM 4FV3 + NEODIA F 1 μm

柔软长纤维绒面,适合软到中硬材料的后段细抛和最终整理。

前道划痕继续收敛,表面状态进入下一道。

细抛整理

TOUCHLAM 4MP2 + ALPLAN 0.05 μm

厚型微孔聚氨酯泡沫,适合固定流程和重复样品的最终抛光。

增材制造样品有孔隙和层间过渡,2TS4负责多相边界,4FV3细化,4MP2固定最终整理节奏。

 

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图3 增材制造金属件与粉末抛光阶段推荐设备与起始参数。

设备配置与工艺控制

控制重点

MASTERLAM 3.0 + DISTRILAM特点

起始设置

制样表现

压力补偿

样品被抛去后,设备把实际压力补回到设定压力。

推荐300 mm盘面;10-20 N/样。

压力变化幅度更小,表面状态更稳定。

自动供液

DISTRILAM按设定剂量和间隔供给NEODIA F和终抛液。

少量连续供液,分道设置。

布面状态更稳定,抛光液用量更可控。

程序重复

转速、压力、时间和供液节奏可保存。

按9 μm、3 μm、1 μm和终抛分段。

长时间抛光和批量样品更容易重复。

 

MASTERLAM 3.0重点说明

MASTERLAM 3.0 + DISTRILAM:压力补偿与自动供液

增材制造金属件与粉末抛光对压力连贯性和供液节奏要求高。MASTERLAM 3.0推荐使用300 mm盘面,用压力自动补偿维持设定压力,1 N步幅让压力调整更细;DISTRILAM按设定节奏供给NEODIA F和终抛液,布面状态更稳定。

 

LAM PLAN抛光路线

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图4 增材制造金属件与粉末抛光阶段流程。

步骤

确定耗材

起始参数

过程观察

控制动作

精抛

TOUCHLAM 2TS4 + NEODIA F 3 μm

130 rpm / 12-15 N/样 / DISTRILAM少量供液 / 90 s

熔池边界和孔隙周边细纹降低。

保持构建方向特征。

细抛

TOUCHLAM 4FV3 + NEODIA F 1 μm

110 rpm / 10 N/样 / DISTRILAM少量供液 / 60 s

层间过渡更清楚。

清洗后终抛。

终抛

TOUCHLAM 4MP2 + ALPLAN 0.05 μm

100 rpm / 8 N/样 / DISTRILAM少量供液 / 60 s

最终表面稳定。

充分冲洗后观察。

 

前道研磨承接

研磨步骤

确定耗材

起始参数

进入抛光时的状态

平面磨

CAMEO DISK Platinium 3

180 rpm / 15-20 N/样 / 60 s

表面连续,孔口和边界清楚。

细磨

CAMEO DISK Platinium 4

160 rpm / 15 N/样 / 60 s

前道划痕收细。

预磨

CAMEO DISK Silver + NEODIA F 6 μm

150 rpm / 12-15 N/样 / 90 s

孔隙和边界保持稳定。