Grinding application center

金相研磨应用方案与案例

从切片分析和金属材料两个方向进入,判断手动研磨、自动研磨、砂纸、磨盘和转入抛光前的余量控制。

Grinding focus by sample

不同样品,先看不同的研磨重点

切片分析

截面结构分析,看目标结构在哪里

研磨从目标结构开始判断:孔中心、焊点界面、芯片层位、端子截面。粒度、压力和停点检查都围绕这个位置设置。

PCB通孔-微切片
PCB 通孔 / 微切片

孔中心和孔壁铜层

研磨重点 截面要穿过孔中心;孔壁铜层较薄,粗砂纸和大压力会把铜边拉毛、拖拽,影响孔壁边界判断。

LAMPLAN 推荐 手动研磨设备做低速、短时推进。稳定转速和扭矩输出让盘面受力更均匀,配合细粒度 SiC 砂纸和停点观察,减少局部啃磨。

查看案例
BGA-焊点截面切片分析案例
BGA / 焊点截面

焊料和铜界面

研磨重点 焊料和铜都偏软;砂粒磨钝后会增加摩擦和拖拽,转速、压力一高,表面更容易发糊、拖尾。粒度转换清洗不足,还会把粗颗粒带到下一道。

LAMPLAN 推荐 选用切削状态稳定的 SiC 砂纸,让磨钝砂粒及时脱落,新的砂粒露出来继续切削。设备用低转速、低载荷短时研磨,不靠加速和加压去硬磨。

查看案例
芯片封装-多层结构切片分析案例
芯片封装 / 器件截面

芯片层位、硅片和脆性结构

研磨重点 硅片、陶瓷填料和脆性封装结构怕粗粒度长时间切削;起步太粗,容易在边缘形成崩边、微裂或层间开口。

LAMPLAN 推荐 切割和镶嵌先把支撑做好,研磨阶段避开过粗砂纸。接近目标后,用细粒度 EXCELLENCE SiC 控制去除量;遇到硅片、陶瓷、硬质填料等硬脆结构,可选用 DIAMOND HC 金刚石薄膜。

查看案例
连接器-引脚-端子截面切片分析案例
FPC / 连接器 / 端子截面

柔性基材和端子边缘

研磨重点 FPC 铜箔薄,连接器和端子常带塑胶包覆、冲压边和局部镀层。镶嵌如果没有把边缘托住,研磨时容易出现铜箔拉伤、端子倒伏、塑胶边界发糊。

LAMPLAN 推荐 先用合适的镶嵌材料把薄铜、端子和塑胶边界固定住,让截面在研磨时有支撑。后续再用低载荷细磨、短时接近目标,减少边缘被带动或拉伤。

查看案例
金属材料分析

组织观察面,看材料状态和前道损伤

研磨从材料硬度、组织观察目的和切割损伤开始判断。平面、划痕和变形层先处理到位,后面的抛光才会更稳定。

Application scenarios

对应研磨方案

选取不同切片样品,查看目标位置、研磨控制和匹配配置。

切片分析

围绕目标截面展开

切片分析按目标位置推进,研磨时要接近目标、避免过磨,并保留抛光和测量余量。

孔壁镀铜厚度测量切片分析案例
孔壁镀铜厚度测量

孔壁铜层和测量边界

关注孔壁铜层厚度、孔角连续性、树脂/玻纤支撑和测量边界。

匹配方向
手动研磨 / 细粒度砂纸 / 短时观察
查看案例
焊点空洞-焊球空洞观察切片分析案例
焊点空洞 / 焊球空洞

空洞位置和焊球中心

关注空洞位置、空洞边缘、焊料状态和焊盘连接,避免目标截面一次越过。

匹配方向
手动研磨 / 低载荷 / 分段确认
查看案例
IC顶部研磨-芯片层位接近切片分析案例
IC 顶部研磨

芯片层位接近

关注顶部层位、目标余量、硅片边缘和封装材料界面,接近目标后单次去除量要小。

匹配方向
细粒度 SiC / 可选 DIAMOND HC / 停点观察
查看案例
镀层-涂层-薄层截面切片分析案例
镀层 / 涂层 / 薄层

薄层厚度和界面轮廓

关注薄层厚度、层间界面、边缘轮廓和镶嵌支撑,研磨阶段要保留测量余量。

匹配方向
手动细磨 / 低载荷 / P4000 承接抛光
查看案例
金属材料分析

围绕组织观察面展开

金属材料研磨先建立稳定观察面,再让后续抛光处理细划痕和组织显现。

锌涂层金相分析案例
锌涂层

涂层厚度和界面保持

关注锌层厚度、涂层边界和基材过渡区。研磨阶段要把涂层保留下来,同时给抛光和测量留出余量。

匹配方向
自动研磨 / 压力补偿 / 细粒度收敛
查看案例
粉末冶金件金相分析案例
粉末冶金件

孔隙和颗粒边界

关注孔隙、颗粒边界和压制组织。研磨要保持孔隙轮廓,避免软相被拖拽后盖住真实边界。

匹配方向
自动研磨 / 刚性磨盘 / 逐级细化
查看案例
增材制造金属件与粉末金相分析案例
增材制造金属件与粉末

熔池边界和粉末状态

关注熔池边界、未熔颗粒、孔隙和不同区域的硬度差。研磨阶段要让观察面稳定,并保留局部结构边界。

匹配方向
自动研磨 / 单点加压 / 划痕逐级收敛
查看案例
镍基高温合金金相分析案例
镍基高温合金

高硬合金和细划痕收敛

关注高硬基体、析出相和细划痕收敛。研磨阶段先把前道损伤处理干净,让后续抛光更容易稳定收敛。

匹配方向
自动研磨 / 刚性磨盘 / 金刚石固定磨料
查看案例

Products

研磨设备与配套耗材选择

明确样品方向和研磨问题后,再选择设备、磨盘、砂纸和细磨耗材。

SMARTLAM 2.0
手动 / 半自动研磨

SMARTLAM 2.0

适合切片分析中需要低速、短时、逐步接近目标截面的研磨流程。

查看产品
SMARTLAM 3.0
单点压力半自动

SMARTLAM 3.0

适合小批量样品和需要单点压力控制的研磨抛光流程。

查看产品
MASTERLAM 1.0
中心压力自动研磨

MASTERLAM 1.0

用于金属材料批量制样、平面建立和稳定粒度转换。

查看产品
MASTERLAM 1.1
自动研磨抛光

MASTERLAM 1.1

用于稳定批量制样,适合对平面度、重复性和操作效率有要求的流程。

查看产品
MASTERLAM 3.0
中心 / 单点压力自动研磨

MASTERLAM 3.0

支持中心压力和单点压力,适合多样品重复制样和精细参数控制。

查看产品
LAMPLAN FAS2
快速更换自粘盘

LAMPLAN FAS2

用于自粘类砂纸和耗材快速更换,减少换道时间并保持盘面安装稳定。

查看产品
LAMPLAN FIX LAM
快速更换不粘盘

LAMPLAN FIX LAM

用于非自粘类研磨耗材固定和快速切换,适合多道研磨流程。

查看产品
LAMPLAN FMS
快速更换磁性盘

LAMPLAN FMS

用于磁性背基耗材快速安装,适合需要频繁更换磨盘和抛光布的流程。

查看产品
Platinium 0
固定磨料金刚石磨盘

Platinium 0

用于研磨前段或特定材料的平面建立,配合设备参数控制稳定去除。

查看产品
Platinium 1
固定磨料金刚石磨盘

Platinium 1

用于较粗研磨阶段,帮助建立平面并承接后续粒度转换。

查看产品
Platinium 2
固定磨料金刚石磨盘

Platinium 2

用于中前段研磨,适合需要较稳定切削和表面收敛的材料。

查看产品
Platinium 3
固定磨料金刚石磨盘

Platinium 3

用于中细研磨阶段,在去除效率和平面保持之间取得平衡。

查看产品
Platinium 4
固定磨料金刚石磨盘

Platinium 4

用于细研磨承接,让样品以更稳定的划痕状态进入后续抛光。

查看产品
Gold
金相预磨盘

Gold

适合软质有色金属等材料的预磨阶段,减少过深变形并提高后续承接稳定性。

查看产品
Silver
金相预磨盘

Silver

适合中硬到高硬铁基合金预磨,兼顾切削效率和平面保持。

查看产品
Rhodium
金相预磨盘

Rhodium

用于陶瓷、金属陶瓷等硬脆材料预磨,帮助控制崩边和表面损伤。

查看产品
MD1
紫色磨盘

MD1

用于研磨流程中的细磨承接,帮助样品进入更稳定的后续抛光状态。

查看产品
Grampus Pyros HC
金刚石砂纸

Grampus Pyros HC

用于硬脆材料和精密截面的细磨控制,保持切削稳定和表面一致性。

查看产品
SiC 砂纸
金相碳化硅砂纸

SiC 砂纸

用于常规逐级研磨,适合切片分析接近目标和金属材料前道划痕转换。

查看产品

Next step

进入抛光页

切片分析

切片分析抛光

看孔壁、焊点、芯片层位和端子边缘。抛光阶段重点控制铜拖尾、边缘圆化、树脂发糊和测量边界变化。

查看切片分析抛光
金属材料分析

金属材料抛光

看组织、相界、夹杂物和腐蚀前表面。抛光阶段重点控制细划痕、变形层、拖尾、浮雕和终抛发雾。

查看金属材料抛光

Grinding support

研磨结果不稳定时,可以把样品情况发给我们

如果样品在研磨过程中出现目标截面不易接近、截面位置偏差、划痕残留、嵌砂、边缘拉伤或软硬材料去除不一致,可以把样品材料、尺寸、观察目标、当前砂纸或磨盘、设备参数和显微照片发给我们。我们会先看制样步骤和耗材匹配,再给出调整建议。